|
【台灣，台北，2011年03月23日】Qcept Technologies 公司日前宣布全球其中兩家規模最大，且總部位於亞洲的半導體製造商，已採購並安裝Qcept Technologies 公司的ChemetriQ® 5000非光學可視性缺陷(NVD)檢測系統。不論是提供有無圖案化(pattern)的晶圓，ChemetriQ 5000都能檢測出NVD，因此可用於廣泛的工具與在線檢測應用，以提高良率學習的速度，並讓業者能維持更高且持續的良率。 其中一家客戶已採購多部ChemetriQ 5000系統，用於監測3X奈米的記憶體與邏輯產品晶圓。第二家客戶則購買一部ChemetriQ 5000系統用於監測3X奈米記憶體晶圓。這些系統將運用於客戶生產晶圓廠中的多種應用，其中包括淨後檢測、監視反應式離子蝕刻製程(Reactive Ion Etch, RIE)、以及監視溼淨製程。 Qcept Technologies公司執行長Bret Bergman表示：「我們非常高興ChemetriQ 5000系統在上一季獲得顧客迅速的採用。領先的半導體製造商正體認到NVD檢測日益成長的重要性，選擇Qcept協助他們強化其良率管理的策略，以確保達到最佳化的元件良率。我們期盼繼續與這些及其他客戶合作，協助解決他們各種NVD上的挑戰，改進其良率並提高其晶圓廠的獲利能力。」 在3X奈米與更小的設計節點方面，業界透過新的材料與元件結構，加上運用傳統的微影製程，可提升半導體元件的效能。業者採用這些新材料與結構時，需要極精準地控制晶圓的洗淨以及進行表面預處理(surface preparation)，因此這些製程對於元件良率的重要性也隨之升高。晶圓洗淨與表面預處理是晶圓廠中重複次數最多的步驟，每片晶圓須重複進行高達100次，因此有許多機會出現非最佳(sub-optimal)的洗淨製程，導致在這些先進的設計節點上會出現嚴重的良率損耗。
ChemetriQ 5000平台能針對非最佳洗淨作業所造成的NVD，提供快速、全晶圓、NVD的在線檢測功能 — 如有機與無機的殘餘物、金屬污染、以及製程引發的充電–這些因素都可能導致嚴重的良率損失，但若採用光學檢測系統則無法檢測出這些缺陷來源。此平台採用一種創新的非破壞性技術來檢測晶圓表面上的功函數(work function)變化。更強化的偵測演算法加上更高的定位準確度，進一步提升ChemetriQ 5000的效能，不論晶圓是否已經進行微影圖案化，都能偵測出各種非光學可視性缺陷。 - 新聞稿有效日期，至2011/04/24為止
聯絡人 ：蕭雅齡
聯絡電話：(02) 2577-2100 # 810
電子郵件：rubyyl.shiau@eraogilvy.com
 上一篇：藍寶AMD FirePro 2270專業多螢幕顯示卡上架囉
 下一篇：奢侈稅刺激房屋委賣，329檔期待售屋數大漲10倍
|
■ 我在中國工作的日子（十四）阿里巴巴敢給股票 - 2023/07/02 ■ 我在中國工作的日子（十三）上億會員怎麼管理 - 2023/06/25 ■ 我在中國工作的日子（十二）最好的公司支付寶 - 2023/06/18 ■ 我在中國工作的日子（十一）兩個女人一個男人 - 2023/06/11 ■ 我在中國工作的日子（十）千團大戰影音帶貨 - 2023/06/04 ■ 我在中國工作的日子（九）電視購物轉型電商 - 2023/05/28 ■ 我在中國工作的日子（八）那些從台灣來的人 - 2023/05/21 ■ 我在中國工作的日子（七）嘉丰資本擦身而過 - 2023/05/14 ■ 我在中國工作的日子（六）跟阿福有關的人們 - 2023/05/07
|
