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本課程簡介半導體微影(黃光)模组所使用的設備、製程相關技術術語與原理。課程內容包括曝光設備各分系統及光學原理、各世代阻劑化學材料及塗佈顯影製程、微影成像之解析度增強技術及光罩、下一世代的微影技術等。 1. 曝光設備各分系統簡介
2. 影像、疊對、生產力(Imaging, overlay, productivity)
3. 微影成像之解析度增強技術及光罩介紹
4. 阻劑化學及塗佈顯影介紹
5. 下一世代的微影技術 主講人：國立高雄大學 鄭秀英 教授 經 歷：行政院同步輻射研究中心副研究員、台灣積體電路製造股份有限公司技術副理、 ASML Taiwan應用工程師
主要研究專長領域：光阻特性、曝光系統、成像機制，以及奈米元件之微影技術等領域均有多年實際經驗，國外著名科學雜誌 20篇，TSMC內部技術報告5篇、專利3篇。受獎:1997-1998年度國科會甲等獎助 - 新聞稿有效日期，至2006/04/08為止
聯絡人 ：陳小姐
聯絡電話：03-5731744, 5731745
電子郵件：patty@mail.nctu.edu.tw
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