|
【2017年6月14日，台北訊】GLOBALFOUNDRIES (格羅方德半導體)今日宣布推出其具有7奈米領先性能（7LP, 7nm Leading-Performance）的FinFET製程技術，其40%的跨越式性能提升將满足諸如高階移動處理器、雲端伺服器網路基礎設備等應用需求。設計軟體已就緒，使用7LP技術的第一批產品預計於2018年上半年推出，並將於2018年下半年進行量產。 2016年9月，GLOBALFOUNDRIES曾宣布將充分利用其在高性能晶片製程中的技術，来研發自己7奈米FinFET製程技術的計畫。由於晶體管和工藝水平的進一步改進，7LP技術的表现遠高於最初的性能目標。與先前使用14奈米FinFET技術的產品相比，預計面積將縮一半，同時處理性能提升超過40%。目前，在GLOBALFOUNDRIES紐約Fab8晶圓廠內，該技術已經做好了為客户設計提供服務的準備。 GLOBALFOUNDRIES CMOS業務部資深副總裁Gregg Bartlett表示：「我們的7奈米FinFET製程技術正在按照計畫開發。我們預期在2018年計劃宣佈的多樣化產品對客户將有強大吸引力。在推動7奈米晶片於未来一年中實現量產的同時，GLOBALFOUNDRIES正在積極開發下一代5奈米及其後續的技術，以確保我們的客户能夠在走在最前端使用領先全球的技術。” GLOBALFOUNDRIES將不斷投資下一代技術節點的研究與開發。通過與合作伙伴IBM和三星的密切合作，2015年GLOBALFOUNDRIES便宣布推出7奈米測試晶片。旋即又於近日宣布業界首款使用奈米矽片晶體管的5奈米的樣片。目前，GLOBALFOUNDRIES正在探索一系列新的晶體管架構，以幫助其客户邁進下一個互聯的智慧時代。
GLOBALFOUNDRIES的7奈米FinFET製程技術充分利用了其在14奈米FinFET製程技術上的批量製造經驗，該技術於2016年初2月8日在Fab 8晶圆廠中開始生產。自那時起，GLOBALFOUNDRIES已為廣大的客户提供了“一次便成功”的設計。 為了加快7LP的量產進度，GLOBALFOUNDRIES正在持續投资最新的研發設備能力，包括在今年下半年首次購入兩組極端紫外線（EUV）光刻工具。7LP的初始量產提升將依賴傳統的光刻方式，當具備批量生產条件時，將逐步使用EUV光刻技術。
- 新聞稿有效日期，至2017/07/14為止
聯絡人 ：詹曜年
聯絡電話：2777-5786*119
電子郵件：Achan@bmags.com
 上一篇：安森美半導體模組化的物聯網開發套件(IDK)
 下一篇：適用資料中心、機器學習和 5G 網路的 7 奈米特殊應用積體電路平臺
|
■ 我在中國工作的日子（十四）阿里巴巴敢給股票 - 2023/07/02 ■ 我在中國工作的日子（十三）上億會員怎麼管理 - 2023/06/25 ■ 我在中國工作的日子（十二）最好的公司支付寶 - 2023/06/18 ■ 我在中國工作的日子（十一）兩個女人一個男人 - 2023/06/11 ■ 我在中國工作的日子（十）千團大戰影音帶貨 - 2023/06/04 ■ 我在中國工作的日子（九）電視購物轉型電商 - 2023/05/28 ■ 我在中國工作的日子（八）那些從台灣來的人 - 2023/05/21 ■ 我在中國工作的日子（七）嘉丰資本擦身而過 - 2023/05/14 ■ 我在中國工作的日子（六）跟阿福有關的人們 - 2023/05/07
|
