EVG領先市場的產品包括，用於步進重複（step-and-repeat）母模（master stamp）製造的EVG®770 自動化UV-奈米壓印微影（UV-NIL）步進機、晶圓級透鏡壓鑄與堆疊製造專用的IQ Aligner® UV 壓印系統，以及用來檢驗對準的EVG®40 NT 自動量測系統。EVG 的 NILPhotonicsTM Competence 技術中心支援其WLO解決方案，該中心運用經實地驗證的製程與設備知識，不僅支援各種新興光子（photonic）應用，還能藉由快速流程建置與最佳化，及客製化設備設計，大幅縮短產品上市時程。

EVG的設備在全球累積龐大的裝機數量，堪稱是奈米壓印與微型鑄模（micromolding）的先鋒與市場領導者。運用EVG尖端壓印微影與接合對準（bond-alignment）技術生產出的晶圓級微型透鏡、繞射光學元件、以及其他光學組件，能提供多方優勢，其中包括透過高度平行化的製程降低擁有成本，及透過堆疊技術做出更微小的終端裝置。

EV Group企業技術總監Thomas Glinsner博士表示：「市場對於晶圓級光學元件製造設備的需求正急速攀升，光在今年，我們就出貨多款多台透鏡壓鑄與堆疊製造以及量測方面的設備至許多WLO一線製造商，用來量產各種元件。這些訂單除了進一步強化EVG作為此市場領導者的地位，還為這些新應用創造可觀的新商機。」

多家領先業界的元件製造商近期宣布計畫擴大在感測市場的經營版圖，以配合客戶日趨緊縮的上市時程。根據市場研究與策略諮詢公司Yole Développement的研究(1)指出，目前業界有十多種感測器設計用來支援下一代的智慧型手機，其中包括3D感測相機、指紋感測器、虹膜掃瞄器、雷射發光二極體、雷射測距器、及生物感測器。整體來看，光學樞紐元件（optical hub）的市場規模將從2016年的106億美元，成長到2021年的180億美元，複合年增率超過11%。

行動消費性電子產品對於新型光學感測解決方案與元件的需求，帶動EVG旗下WLO製造解決方案的需求成長，其中包括營造更具美感的虛擬實境與擴增實境（VR/AR）使用者經驗的3D感測、對於各種安全應用越來越重要的生物辨識感測、環境感測、紅外線（IR）感測、以及陣列相機（camera arrays）等。其他應用還包括智慧型手機額外搭載的光學感測器，可透過先進景深感測技術來改進自動對焦性能及微型顯示器。

EV Group技術開發暨IP部門協理Markus Wimplinger表示：「晶圓級光學與3D感測領域出現一波高持續性的趨勢，近期公司總部的NILPhotonics Competence 技術中心持續為許多客戶的專案提供技術支援，因此我們能預見近期業界將更加廣泛採納這項技術。」

關於EVG的WLO 設備產品
 用來鑄造母模的 EVG770 自動化UV-NIL 步進機：母模是晶圓尺寸的模板，上面排滿微透鏡模具，這些模具以步進重複方式從一個透鏡模板複製而成。從材料或玻璃做出單一透鏡母模開始，EVG提供一個覆蓋所有鑄造母模之關鍵製程步驟的流程，不僅具備極高的位置精準度，還達到高度的透鏡外型再現性（repeatability），符合製造高階晶圓級相機模組的要求。

 用於 UV 微透鏡鑄造的 IQ Aligner 自動化UV-NIL系統：微影UV 壓印是一種高度平行製造技巧，用來製造聚合材質微透鏡，亦即WLO系統的關鍵元件。從晶圓大小的母模複製軟式工作模具開始，EVG提供混合與單片透鏡鑄造製程，能在工作母模或微透鏡材料與各種不同材料組合時，輕易進行調適。此外，EV Group還提供通過驗證的微透鏡鑄造製程，包括提供所有相關材料的know-how知識。

 EVG40 NT 自動量測系統：其支援極高解析度與精準度的垂直與側邊（lateral）量測。量測對於驗證嚴格製程規範及快速最佳化整合製程參數而言至關重要。在WLO製造方面，EVG的量測解決方案除了能用於關鍵尺寸（CD）的量測以及透鏡堆疊對準驗證外，還能用在許多其他領域的應用。

欲瞭解有關 EVG旗下WLO製造解決方案的資訊，請瀏覽 :
https://www.evgroup.com/en/solutions/wafer_level_optics/introduction/

關於EV Group （EVG）
EVG是全球半導體、微機電、化合物半導體、電源元件和奈米科技應用的晶圓製程解決方案領導廠商，主要產品包括晶圓接合、晶圓薄化、微影/奈米壓印影術（NIL）和檢測設備，以及光阻塗佈機、顯影機、晶圓清洗和檢測設備。EVG成立於1980年，藉由一個完備的全球網絡資源為全球的客戶和合作夥伴提供服務。更多相關資訊請參考公司網站：www.EVGroup.com

- 新聞稿有效日期，至2017/10/12為止

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