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適合大專以上理工科系之畢業生、具有基礎物理、普通化學基礎、欲進入或從事半導體製程產業之人士參加。 開課時間:2007年7月11日, 7月25日, 週三 18:30~21:30，共計6小時。
開課大綱:
1. Fundamental of Wafer Cleaning -- 90min
2. FEOL Wafer Cleaning: Challenges and Technologies-- 90min
3. FEOL & BEOL PR Stripping: Challenges and Technologies-- 60min
4. Non-traditional Cleaning Process Technologies-- 60min
5. Wafer cleaning Characterization-- 40min
6. Conclusion and Future Direction-- 20min
開課講員:
林啟發 處長
現職:FSI International製程技術處長
專長:積體電路技術：晶圓清洗潔淨技術、CMP技術、薄膜技術、BEOL Integration,著有期刊及會議論文40餘篇，取得中、美、台專利各8、13、17件
經歷:
華邦電子薄膜製程及技術開發 9年
尚達積體電路製程模組及行銷 3年
美商FSI International 製程技術4年 ------------------------報名表-------------------------
欲報名者請填報名表傳真至(03)5711992 或Email至weihsinmei@mail.nctu.edu.tw 或網路報名請至http://submic.ee.nctu.edu.tw首頁之[開課報名]處報名或直接點選每門課之「我要報名」進行報名。 課程名稱：先進積體電路清洗製程技術
開課時間：2007年7月11日, 7月25日 週三 18:30~21:30，共計6小時。
中文姓名：
英文姓名：
出生日期：民國 年 月 日
＊帳號(僅提供報名系統用必填)(請填使用之email)：
＊密碼(僅提供報名系統用必填)(請以英文與數字,不超過10字元)：
公司名稱：
部門：
職稱：
公司地址(含郵遞區號)：
公司電話：
住宅或行動電話：
Email : (必填)
訓練負責人/部門/連絡電話/Email：(公司付費者必填)
最高學歷：
(1)請勾選最高學位 □博士 □碩士 □大學 □專科 □其他
(2)畢業學校名稱/科系名稱：
嬓費方式：請勾選□郵寄匯支票 □至培訓中心繳費 □上課當天現場繳費 繳費收據抬頭：(必填) 備註：
匯支票抬頭：「國立交通大學」
地址：新竹市300大學路1001號 工程四館312A室 電子系人才培訓中心 魏小姐
~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~ - 新聞稿有效日期，至2007/07/11為止
聯絡人 ：陳秋雲
聯絡電話：03-5731745
電子郵件：patty@faculty.nctu.edu.tw
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