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產業動態 高熱流量晶片散熱技術講座
工研院電光所 本新聞稿發佈於2007/08/08,由發布之企業承擔內容之立場與責任,與本站無關

隨著半導體製程技術及封裝技術之發展,晶片微型化及高密度封裝已是未來的發展趨勢,而其衍生的晶片高熱流量、高發熱密度及熱點(hot spot)問題熱將是熱管理的重要挑戰。工研院特別邀請美國馬里蘭大學機械系教授Dr. Avram Bar-Cohen,將特別針對封裝趨勢之熱挑戰、自然冷卻、液相冷卻及冷凍技術現況、晶片熱點解決對策及先進冷卻技術等主題作一深入淺出及精闢的介紹。

 
■ 發布/輪播新聞稿 新聞稿直達14萬電子報訂戶刊登新聞稿:按此
 
時 間:96年8月30日(星期四)9:00至16:30
地 點:工研院51館3A會議室 (新竹縣竹東鎮中興路四段195號,電話︰03-5918062)
主辦單位:工業技術研究院電子與光電研究所、台灣熱管理協會
協辦單位:先進微系統與構裝技術聯盟
講 師:Dr. Avram Bar-Cohen
演講語言:全程英文
報 名 處:工研院電光所 周惠珍小姐 聯絡電話:03-5918062、傳真:03-5820221
議 程:
8:30~9:00 Registration
9:00~9:10 Opening
9:10~10:30 Thermal Packaging Technology Drivers
10:30~10:50 Break
10:50~12:00 State of the Art in Thermal Packaging
12:00~13:30 Lunch
13:30~14:50 On-Chip Thermoelectric MicroCoolers
14:50~15:20 Break
15:20~16:30 Emerging Cooling Technologies

參考網址:http://epkg-mems.org/memb/SeminarView.aspx?SeminarId=55

- 新聞稿有效日期,至2007/08/30為止


聯絡人 :周惠珍
聯絡電話:03-5918062
電子郵件:hui_chen@itri.org.tw

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