「PHI GENESIS」XPS 通過自動樣品交換以及多點分析功能,結合提高計數率的高靈敏度分析儀,提供快速、高靈敏度和微區的 XPS 分析。迄今為止,ULVAC-PHI 和Physical Electronics USA 已將許多全球首創的 XPS 分析技術投入實際應用中(掃描微聚焦型 X 射線、全自動化 XPS 分析、自動中和絕緣體分析、用團簇離子蝕刻槍對有機材料進行深度分析,以及通過硬 X 射線對無機材料進行無破壞性的深度分析)。整合這些技術到儀器中,便可以為金屬、半導體、陶瓷和有機物質等所有材料提供尖端的 XPS 分析技術。
PHI GENESIS 的另一項創新是對操作簡化的追求,新軟體旨在提供各個層次的用戶都可快速上手使用,無論是表面分析的初學者還是尖端科學家,是在製造現場還是在尖端開發的研究機關,都能夠符合使用者的習慣和需求。ULVAC-PHI亦提供了一個實驗室級的硬 X 射線選項,使得在實驗室環境中同樣可以使用如同大型同步輻射光源才能進行的高階分析。