半導體年成長率約10%*4，預期5G/6G帶動通訊速度與容量、自駕車與元宇宙推廣的驅動下，將進一步推升對半導體效能的需求。Fujifilm致力於行銷與生產光阻劑*5、微影相關材料、CMP研磨液、CMP研磨清洗液*6、薄膜材料*7、Polymides*8，以及其他用於半導體前段及後段製程、影像感測器的彩色濾光片材料，以及Wave Control Mosaic光阻材料*9。除了廣泛多元的產品線外，該公司擁有穏健的全球供應鏈、先進的研發能力、與客戶的緊密夥伴關係，正不斷地拓展業務、在日本國內外據點積極進行廠房擴建與升級，如在日本新增CMP研磨液生產線、在比利時擴增Polymides生產設備，以因應半導體強勁的需求。台灣富士電子材料新取得的新竹用地，將用以建設先進半導體材料廠房，以拓展產能、因應台灣半導體市場的快速成長。新廠房將引進最先進的生產與品保設備，做為強化CMP研磨液與微影相關材料的在地生產與技術支援之用途，另外也將建立新的倉儲設備，用以快速供貨、回應客戶需求。新廠將設置太陽能光電板以減少環境負荷，屆時鄰近的一廠、二廠辦公室也將整合至新廠，以優化廠際間的運作。位於台南三廠的新建廠房，將會增加CMP研磨液生產線及擴增其他材料之產能，以符合半導體客戶快速增長下，對在地材料供應的需求。
Fujifilm在台灣將有四個生產基地，確保能供應客戶即時且品質穩定的最先進產品。並積極主動投資以拓展、強化在地的生產、研發、品保，以因應預期的半導體成長需求。新廠與既有廠房擴增預估將創造50個在地工作機會。Fujifilm將繼續透過積極的資本投資來加速業務成長，預計其電子材料事業營收將於2030會計年度達到5,000億日元（約新台幣1,133億元），未來該公司會持續透過先進半導體材料之開發與供應，努力為半導體產業之發展做出最大貢獻。
[資本投資概要]
*1: 半導體表面含有硬度不一的線路與絕緣膜，CMP研磨液（Chemical Mechanical Polishing化學機械研磨）
關於富士電子材料股份有限公司
台灣富士電子材料公司（FUJIFILM Electronic Materials Taiwan）成立於1996年，目前在新竹湖口、台南善化共設有三廠，預期四廠將於2026年春季開始量產。
- 新聞稿有效日期，至2023/06/16 為止
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